使用SiH4和TEOS成膜a-Si膜，氧化硅膜和氮化物膜的单晶片CVD系统。

SMD系列用于形成金属膜，ITO，IGZO，电介质膜等单晶片型溅射设备，具有超过1,000台的交付经验，可以在各种生产环境中稳定运行。

用于a-Si膜形成的垂直CVD系统。 拥有超过30年的大规模生产经验。 在各个室中，以低沉积速率形成膜，可以获得意想不到的高品质。

用于形成透明导电膜，金属膜等的水平直列式溅射设备。 应用于太阳能电池生产线的背面电极膜，绝缘膜等各种成膜工序。

对塑料、纸张，金属箔等材料进行连续卷绕，同时对其进行沉积金属，氧化物等的成膜设备。 提供包装材料，电容器，磁带和各类应用的兼容型号，涵盖了从小型实验机器到批量生产设备。